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表面活性劑APA膠體磨,GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。
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表面活性劑APA膠體磨
發展趨勢:
隨著quan球經濟的發展以及科學技術領域的開拓,表面活性劑工業將得到快速發展,其應用領域從日用化學工業發展到石油、紡織、食品、農業、新型材料等方面。環保型表面活性劑的研究開發勢在必行,且市場前景廣闊,具有安全、溫和、易生物降解等特性的表面活性劑的開發和應用為大勢所趨。 而太倉希德膠體磨GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。
設備介紹:
是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求,三層錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
表面活性劑APA膠體磨設備選型表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的 10%。