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硫酸bei研磨高速分散機,對于硫酸bei溶液的生產,目前許多廠家采用國產膠體磨生產,由于國產膠體磨本身轉速較低為2930轉,生產出來的硫酸bei溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產效果很低,需要研磨5-6小時。而使用SID研磨分散機進行處理,研磨兩遍,粒徑可以細化到5μm,效果好,效率高。
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硫酸bei研磨高速分散機
研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果,研磨分散機是一臺目前創新型的研磨分散設備。對于硫酸bei溶液的生產,目前許多廠家采用國產膠體磨生產,由于國產膠體磨本身轉速較低為2930轉,生產出來的硫酸bei溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產效果很低,需要研磨5-6小時。而使用SID研磨分散機進行處理,研磨兩遍,粒徑可以細化到5μm,效果好,效率高。
硫酸beiGMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
硫酸bei研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
硫酸bei研磨高速分散機設備選型表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。