納米氧化鋅分散機是解決其易團聚問題的專用設備，通過高剪切、超聲或高壓均質等技術，將納米氧化鋅顆粒打散并均勻分散。配備精準控溫與防二次團聚設計，保障粒徑穩定。廣泛用于涂料、化妝品、橡膠等領域，助力發揮納米氧化鋅的抗菌、防曬等特性，提升產品性能。

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產品詳情

納米氧化鋅分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品，使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫藥等許多領域有重要的應用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

納米級粉末的分散，普遍會出現物料團聚的現象，導致粒徑變大。SID研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結合，先研磨后分散機，解決團聚問題！

GMD2000系列研磨式分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

納米氧化鋅分散機

GMD2000系列研磨式分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

納米氧化鋅分散機

納米氧化鋅分散機設備參數表:

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。

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